超高压曝光光源
这款超高压曝光灯采用先进的气体放电技术,内置经优化设计的电极与高品质石英玻璃灯体,光谱分布精准可控,覆盖 365nm、405nm 等光刻工艺常用波段,与各类光刻胶完美匹配,为客户带来出色的曝光效果。
超高压曝光光源 | 2025-03-28
曝光光源系统:多波段混光技术:以特有的光波长配合方案,适应不同应用需求,不同光阻满足客户生产工艺;
集成高能量光源技术:可根据需求,满足大功率光学模组运行。
UV固化光源系统:采用UVLED光源替换现有汞灯光源,不影响原机台面板固化功能,具有出光率高,寿命长,
出度高,无污染,耗能少等特点。