超高压曝光光源

这款超高压曝光灯采用先进的气体放电技术，内置经优化设计的电极与高品质石英玻璃灯体，光谱分布精准可控，覆盖 365nm、405nm 等光刻工艺常用波段，与各类光刻胶完美匹配，为客户带来出色的曝光效果。