高亮度：能产生极高的光强，满足光刻等工艺对曝光能量的严格要求，确保光刻图案的清晰和精确。
光谱特性：具有特定的光谱分布，其发射的紫外线波长范围与光刻胶的感光特性相匹配，例如常见的波长有 365nm、405nm 等，可根据不同的光刻工艺需求进行选择。
稳定性好：在长时间工作过程中，能保持稳定的发光强度和光谱特性，保证曝光工艺的一致性和重复性。
寿命较长：经过特殊设计和制造，具有相对较长的使用寿命，减少了频繁更换灯具对生产效率的影响。
半导体制造：在芯片制造过程中，用于光刻工艺，将集成电路图案转移到硅片等半导体材料上，是制造高精度芯片不可或缺的关键设备之一。
平板显示：用于液晶显示器（LCD）、有机发光二极管显示器（OLED）等平板显示器件的制造，对光刻图案的精度要求也很高，超高压曝光灯为其提供了稳定、高效的曝光光源。
印制电路板（PCB）制造：在 PCB 制造中，通过光刻工艺将电路图案制作在覆铜板上，超高压曝光灯可满足其对曝光精度和效率的要求。
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